芯片退火爐
熱處理，也稱為退火，是半導體制造過程中的常見步驟。半導體和絕緣體內(nèi)輻射引起的局部電荷的積累改變了局部場分布、閾值電壓和漏電流。韋克威正在申請專利的技術直接在芯片上實施系統(tǒng)級退火工藝，通過在實驗室中完成加熱來退火缺陷并提高器件性能。
熱處理，也稱為退火，是半導體制造過程中的常見步驟。半導體和絕緣體內(nèi)輻射引起的局部電荷的積累改變了局部場分布、閾值電壓和漏電流。韋克威正在申請專利的技術直接在芯片上實施系統(tǒng)級退火工藝，通過在實驗室中完成加熱來退火缺陷并提高器件性能。