熱處理，也稱為退火，是半導(dǎo)體制造過程中的常見步驟。半導(dǎo)體和絕緣體內(nèi)輻射引起的局部電荷的積累改變了局部場分布、閾值電壓和漏電流。韋克威正在申請(qǐng)專利的技術(shù)直接在芯片上實(shí)施系統(tǒng)級(jí)退火工藝，通過在實(shí)驗(yàn)室中完成加熱來退火缺陷并提高器件性能。